光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)在表面測(cè)量和坐標(biāo)測(cè)量中有著廣泛的應(yīng)用。這些系統(tǒng)速度快，分辨率高，可在非接觸和非破壞性模式下操作；這些方面對(duì)于未來的工廠至關(guān)重要。然而，光學(xué)測(cè)量往往是不可追溯的，由于被測(cè)對(duì)象和測(cè)量系統(tǒng)之間的相互作用的復(fù)雜性。該項(xiàng)目旨在改善測(cè)量基礎(chǔ)設(shè)施，以實(shí)現(xiàn)可追溯的工業(yè)三維粗糙度測(cè)量以及形狀和尺寸，并為最終用戶提供指導(dǎo)，從而支持尺寸測(cè)量在工業(yè)中的成功實(shí)施。

Sen far 旨在利用他在光學(xué)計(jì)量學(xué)方面的豐富經(jīng)驗(yàn)和他在工業(yè)市場(chǎng)的深厚知識(shí)，通過以下方式為這個(gè)項(xiàng)目做出貢獻(xiàn)：

向聯(lián)合會(huì)表達(dá)對(duì)粗糙度、波紋度、形狀或尺寸光學(xué)測(cè)量的需求
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在 ISO 25178 標(biāo)準(zhǔn)化工作